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三氟化氮的电子式图片 |
nf3气体主要用于什么方面,Nf3是什么意思
NF3气体广泛应用于高能化学激光器、电子工业(IC)和太阳能光伏工业。 主要用途NF3的主要用途有三个。一是用作高能化学激光气体的氟源。二是在电子工业(IC)中用作蚀刻剂和清洗剂。三是可以用来清洗半导体材料的表面,去除表面的氧化物和有机物,从而提高半导体器件的质量和性能。 此外,三氟化氮还可用于制造氮化硅、氮化铝等半导体材料。 也可以使用三氟化氮
NF3气体广泛应用于高能化学激光器、电子工业(IC)和太阳能光伏工业。 目前,昊华天然气有一条年产2000吨NF3生产线,其生产技术和设备处于国内领先地位。 产品特点NF3是常温、大量的三氟化氮(NF3)是含氟特种气体的一种,是目前市场容量最大的电子特种气体产品。它在常温下呈化学惰性,在高温下比氧气活泼,比氟活泼。 更稳定且更易于处理。 三氟化氮主要用于等离子蚀刻
电子气体主要是半导体制造各个过程中使用的各种化学气体,如外延生长、离子注入、掺杂、蚀刻清洗、掩蔽膜生成等,如高纯SiH4、PH3、AsH3、B2H6、N2O、NH3、SF6、NF3、CF4、BCI3、BF31。NF3是微电子行业中优良的等离子蚀刻气体。硅和氮化硅,使用NF3和CF4+O2混合气体有更高的蚀刻速率和选择。 安全且不污染表面。 氢气立即与NF3发生反应
NF3是一种无色、不易燃的气体,具有类似于氟化氢气体的轻微气味。 它主要用作蚀刻硅和锗的蚀刻剂,以及用于制备NF3。它通常与其他气体(例如硅烷)一起用于半导体加工。 有关反应性的相关信息包括空气产品公司NF3/硅烷(SiH4)混合物的可燃性测试。 本次试验结果与1990年日本东京化学技术试验结果相同。
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标签: Nf3是什么意思
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