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ni为多少 |
半导体ni是多少,n型半导体的载流子浓度
3-6.Si样品中的施主浓度为4.5×1016cm-3,尝试计算300K时的电子浓度和空穴浓度? 3-7.对于掺杂有施主杂质的非简并Si样品,试求当EF=(EC+ED)/2时施主的浓度。 解:导体:106~104(cm)-1半导体:104~10-10(cm)-1绝缘体:小于10-10(cm)-1北京大学微电子研究所1.半导体的结构原子组合:共价键形成的晶体结构:正四面体与金
在本征半导体中,导带中的电子浓度值等于价带中的空穴浓度值。 本征半导体中的电子浓度和空穴浓度表示为模型ONE-2NI0-010。 因购买数量不同或所选规格不同而变化,如用户和商家在线下载
\ _ / 半导体中的Ni是本征载流子(IntrinsicCarrier)是本征半导体中的载流子(电子和空穴),即不是通过掺杂产生的载流子。 也就是说,本征载流子受热激发——由本征激发产生的本征半导体Ni=5.2*1015*T3/2*exp-E/2KT是温度E是带隙能量K=1.38*10-23J/KE不同物质不同Si=1.12evGe=0.67evDi(金刚石)金刚石=2.5ev硅
本征载流子浓度ni=1.5*10*10cm-3不向半导体材料中添加任何杂质的半导体称为本征半导体。 当温度高于绝对零值后,本征半导体中:ni=pi(ni-自由电子浓度;pi-空穴浓度)。 K1—常数,硅3.87?10-6K-3/2/cm3,锗1.76?10-6K-3/2/cm3;T—热力学温度;EGO—带隙
╯﹏╰ 半导体中的Ni是本征载流子(IntrinsicCarrier),即本征半导体中的载流子(电子和空穴),即不是由掺杂引起的。3-1.证明:令n为当时型半导体的电子浓度,ni为本征半导体的电子浓度。 显然,nn>ni被证明了。 3-2.解:在一定温度下,对于本征材料,材料的带隙越窄,跃迁所需的能量越小,所以
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